產(chǎn)品名稱：日本OTSUKA大塚電子膜厚監(jiān)測重慶代理

品信息

• 支持從薄到厚的廣泛薄膜厚度
• 使用反射光譜的膜厚度分析
• 緊湊、低成本、非接觸、無損、高精度測量
• 簡單的條件設(shè)置和測量操作！任何人都可以輕松測量薄膜厚度
• 使用峰谷法、頻率分析法、非線性*小二乘法、*優(yōu)化法等，可以進(jìn)行廣泛的膜厚測量。
• 光學(xué)常數(shù)分析（n：折射率，k：消光系數(shù)）可以通過非線性*小二乘法的膜厚分析算法進(jìn)行。

• 覺對反射率測量
• 薄膜厚度分析（10層）
• 光學(xué)常數(shù)分析（n：折射率，k：消光系數(shù)）

• 功能性薄膜、塑料
  透明導(dǎo)電薄膜（ITO、銀納米線）、相位差膜、偏光膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、膠粘劑、粘合劑、保護(hù)膜、hard Coat、抗指紋代理等
• 半導(dǎo)體
  化合物半導(dǎo)體、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、Sapphire等。
• 表面處理
  DLC涂層、防銹劑、防霧劑等。
• 光學(xué)材料
  濾光片、增透膜等
• FPD
  LCD（CF、ITO、LC、PI）、OLED（有機(jī)薄膜、密封膠）等
• 其他
  

• HDD、磁帶、建材等

• 原則

  測量原理

  Otsuka Electronics 使用光學(xué)干涉儀和我們自己的高精度分光光度計(jì)實(shí)現(xiàn)非接觸、非破壞性、高速和高精度的薄膜厚度測量。光學(xué)干涉測量法是一種利用光學(xué)系統(tǒng)使用分光光度計(jì)獲得的反射率來確定光學(xué)膜厚度的方法，如圖 2 所示。以鍍在金屬基材上的薄膜為例，如圖1所示，從目標(biāo)樣品上方入射的光被薄膜表面反射（R1）。此外，透過薄膜的光在基板（金屬）和薄膜界面（R2）處反射。測量此時(shí)因光程差引起的相移而引起的光學(xué)干涉現(xiàn)象，并根據(jù)得到的反射光譜和折射率計(jì)算膜厚的方法稱為光學(xué)干涉法。分析方法有四種：峰谷法、頻率分析法、非線性*小二乘法和優(yōu)化法。

  

  規(guī)格

  規(guī)格

  測量波長范圍	300-800nm
  測量膜厚范圍 （SiO 2換算）	3納米至35微米
  光斑直徑	φ1.2mm
  樣本量	φ200×5(H)mm
  測量時(shí)間	0.1至10秒內(nèi)
  電源	AC100V±10% 300VA
  尺寸、重量	280（寬）x 570（深）x 350（高）毫米，24 公斤
  其他的	參考盤、菜譜制作服務(wù)

   

   

  軟件畫面

  

  銷售中心-重慶內(nèi)藤