蝕刻裝置

量產(chǎn)用干法蝕刻設(shè)備NE-5700 / NE-7800

量產(chǎn)的干法蝕刻設(shè)備NE-5700 / NE-7800是一種可擴展的蝕刻設(shè)備，支持從一個腔室到多個腔室，并強調(diào)性價比。

特征

• 除了一個腔室之外，還可以安裝磁場 ICP (ISM)、NLD 等離子體源、灰化腔室和 CCP 腔室，以支持各種蝕刻工藝。
• 配備星形電極和各種溫度控制功能，以實現(xiàn)工藝再現(xiàn)性和穩(wěn)定性。
• 易于維護(hù)的結(jié)構(gòu)，停機時間*短，用于再制造、零件供應(yīng)、維護(hù)和培訓(xùn)服務(wù)的**備份系統(tǒng)。
• 由半導(dǎo)體技術(shù)研究院提供的完整工藝支持體系。

采用

• 化合物（LED、LD、高頻器件）和功率器件（IGBT 布線加工、SiC 加工）。
• 用于金屬布線、層間絕緣膜（樹脂基）、柵電極加工工藝。
• 用于蝕刻鐵電材料和貴金屬。
• 用于加工磁性材料。