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光學(xué)薄膜濺射裝置ULDiS 系列
ULDiS系列光學(xué)薄膜濺射設(shè)備是對(duì)Metamode®技術(shù)進(jìn)行演進(jìn),實(shí)現(xiàn)更高品質(zhì)光學(xué)薄膜的數(shù)字濺射設(shè)備。與美國(guó) JDS Uniphase 簽訂新的許可協(xié)議。隨著許可協(xié)議的簽訂,JDS Uniphase 將不受任何限制地銷(xiāo)售用于所有光學(xué)應(yīng)用的 Metamode® Spatter **。
特征
- 能夠形成具有優(yōu)異光學(xué)特性的薄膜
- 可低溫成膜
- 采用雙陰極抑制異常放電
- 能夠以良好的膜厚再現(xiàn)性成膜
- 提供豐富的選項(xiàng),例如低損傷陰極
采用
- 用于數(shù)碼相機(jī)等的紅外截止濾光片。
- 投影儀等用分色濾光片
- DVD相位鏡
- 其他光學(xué)薄膜,如 AR