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研發(fā)用高
密度等離子刻蝕設(shè)備NE-550EX
NE-550EX研發(fā)用高密度等離子刻蝕設(shè)備標(biāo)配磁場ICP(ISM=Inductively Super Magnetron)高密度等離子刻蝕設(shè)備和單片LL腔體作為標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備,實(shí)現(xiàn)了緊湊的尺寸和低價...
特征
- 借助磁場輔助,與其他 ICP 方法相比,可以產(chǎn)生低壓、低電子溫度和高密度等離子體,并且可以進(jìn)行從離子蝕刻到自由基蝕刻的廣泛等離子體控制,因此可用于各種工藝一個開發(fā)工具。
- 配備“星形電極”以防止沉積物粘附在射頻輸入窗口上。此外,它還具有加熱功能,是一種強(qiáng)調(diào)再現(xiàn)性和穩(wěn)定性的設(shè)備概念。
- 實(shí)現(xiàn)可靠性高的搬運(yùn)機(jī)器人等研發(fā)工具的可靠性,裝置結(jié)構(gòu)簡單,維護(hù)方便。
- 可添加豐富的可選功能和卡帶室。
- NE-5700 和 NE-7800 的產(chǎn)品陣容可兼容由同一腔室組成的多個腔室,用于量產(chǎn)線。
采用
- 復(fù)合材料(LED、LD、高頻器件和功率器件)。
- 電極加工、金屬布線、有機(jī)薄膜、陶瓷加工等
- 用于處理難以蝕刻的材料,例如鐵電體、貴金屬和磁性薄膜。
- Nanoimprint、NEMS、MEMS、各種傳感器。
- 生物芯片、微流控器件、光子晶體等
規(guī)格
物品 | 規(guī)格 |
系統(tǒng)配置 | 研發(fā)/原型設(shè)備+負(fù)載鎖定室 |
板尺寸 | ~ 150 毫米 |
工作壓力(Pa) | 0.07 至 6.7 |
平面內(nèi)和平面間均勻性 | ± 3% *大值 |
板溫控制 | 靜電夾頭 |